留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

临近空间高功率微波辐照放电试验技术

杨浩 闫二艳 郑强林 石小燕 鲍向阳 胡海鹰 刘忠

杨浩, 闫二艳, 郑强林, 等. 临近空间高功率微波辐照放电试验技术[J]. 强激光与粒子束, 2019, 31: 103216. doi: 10.11884/HPLPB201931.190151
引用本文: 杨浩, 闫二艳, 郑强林, 等. 临近空间高功率微波辐照放电试验技术[J]. 强激光与粒子束, 2019, 31: 103216. doi: 10.11884/HPLPB201931.190151
Wei Huiling, Cao Jianyong, Yu Peixuan, et al. Development of ion source discharge chamber for the 5 MW neutral beam heating line on HL-2M device[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2020, 32: 046001. doi: 10.11884/HPLPB202032.190275
Citation: Yang Hao, Yan Eryan, Zheng Qianglin, et al. Examination research of high power microwave irradiation discharge in near space[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2019, 31: 103216. doi: 10.11884/HPLPB201931.190151

临近空间高功率微波辐照放电试验技术

doi: 10.11884/HPLPB201931.190151
基金项目: 军科委基础加强项目
详细信息
    作者简介:

    杨浩(1992—), 男, 学士, 从事高功率微波产生及应用技术研究; mushui9@qq.com

    通讯作者:

    闫二艳(1979—), 女, 博士, 从事高功率微波等离子体研究; yaneryan_2002@163.com

  • 中图分类号: TN99

Examination research of high power microwave irradiation discharge in near space

  • 摘要: 随着高功率微波技术的发展, 电子设备面临强电磁辐射攻击的威胁越来越严重, 对电子设备的防护加固提出了更高要求, 临近空间飞行器及其放电效应是目前较少考虑的环节, 且缺少相应的环境试验条件。文章提出了一种将临近空间气体环境与高功率微波电磁环境相结合的方法, 在柱形真空罐内壁布置吸波材料, 使用MW级S波段微波源及辐射聚焦系统在腔室中心形成强电磁辐射区, 以便开展相关辐照放电试验研究。针对脉冲微波强场监测, 通过光纤电场探头测量小信号连续波的方式进行等效传递, 中心场强最高超过2kV/cm。利用该试验装置可开展临近空间电子学系统在高功率微波辐照下的放电击穿研究, 对薄弱环节分析及防护加固提供帮助。
  • 在高功率激光系统中,溶胶-凝胶化学膜作为增透光学元件的主流膜层,具有应力小、涂制口径大、抗激光损伤阈值高、成本低廉等优点,广泛应用于各种增透元件上,如BSG取样光栅、真空隔离片、楔形透镜等[1-2]。光学元件工作环境中的水分及其他污染物不仅会降低化学膜的抗激光损伤阈值,也会降低化学膜的光学性能。为确保高功率激光系统的长期稳定运行,溶胶凝胶多孔二氧化硅增透膜的环境稳定性是必须解决的难题。赵松楠等人研究了不同后处理方法对真空环境下溶胶-凝胶SiO2膜层抗污染能力的影响,发现在碱性SiO2膜层上加镀一层酸性SiO2膜的复合膜层真空抗污染能力提升最为显著[3];Li Xiaoguang等人针对真空环境下SiO2薄膜抗污染稳定性进行了研究,发现氨处理及HMDS后处理能够显著增强SiO2薄膜稳定性[4],但现有研究针对常压环境下不同折射率膜层自身稳定性鲜有报道。本文拟利用光学理论计算推测三种不同折射率胶体涂制的膜层稳定性,采用三种胶体(折射率分别为1.15,1.19,1.25)在熔石英基底上涂制四种不同薄膜,通过实验考查常压百级环境下膜层透射率、反射率、折射率和膜层厚度随时间的变化规律。

    溶胶-凝胶增透膜呈多孔结构,导致增透膜与环境接触比表面积较大。因此,增透膜对环境中的水分及污染物具有强吸附能力,具体如图 1所示。普遍认为,在高功率激光系统中膜层的抗激光损伤阈值、光学性能下降可归因于环境中水分及污染物吸附于膜层表面,填充膜层孔隙。

    图  1  环境污染物在膜层上的吸附机理图
    Figure  1.  Mechanism of the vapor adsorption of contamination and humidity in environment on the coating

    通过Lorentz-Lorenz定律[5],利用增透膜的初始折射率可以计算出膜层孔隙率

    (n2f1)/(n2f+2)=(1Vf)(n2s1)/(n2s+2)
    (1)

    其中:nfns分别是多孔膜层和固体支架的折射率(SiO2固体为1.46),Vf是膜层的体积孔隙率。可以计算出折射率分别为1.24,1.15,1.19的三种膜层的孔隙率分别为44.5%,64.6%和55.2%。

    由于利用固体支架和空气折射率的加权平均能够估算多孔膜层的折射率,因此可以对污染膜层固体支架、空气和污染物进行加权平均,从而估算得到污染膜层折射率[6]

    nf=(1Vf)ns+Vf(1Vc)+VfVcnc
    (2)

    式中:ncVc分别是污染物折射率和被污染孔隙比率。

    假设膜层初始折射率为1.15,填充孔隙的污染物平均折射率为1.4,被污染孔隙率范围为0~100%,即模拟计算过程覆盖了从膜层未被污染至全部孔隙均被污染物填充,结合式(2)可以计算得到膜层被污染后对应的折射率,利用膜层设计软件计算出不同折射率的膜层透射曲线和反射曲线,结果如图 2所示。

    图  2  不同折射率膜层的理论透射曲线
    Figure  2.  Theoretical transmission curves of coatings with different refractive index

    不难发现,随着折射率升高,透射率峰位逐渐红移,透射率呈现先上升后下降的趋势,最高透射率对应的最优折射率为1.19,且折射率在1.19~1.25范围内变化时,透射率相对最为稳定(图 3所示)。因此,可以初步推断三种溶胶制备的膜层的稳定性由高到低依次为折射率为1.19, 1.15, 1.24的膜层。

    图  3  最大透射率351 nm处透射率随折射率变化的理论计算曲线
    Figure  3.  Change of the maximum transmittance and the transmittance at 351 nm with the increase of refractive index
    2.1.1   折射率为1.24的溶胶制备

    将无水乙醇、正硅酸乙酯、氨水、纯水按照一定比例混合后,静置陈化得溶液A待用;第二份将无水乙醇、正硅酸乙酯、Tomas酸(1 g浓盐酸+359 g水)按照一定比例混合后,静置陈化得溶液B待用。陈化完成后,将A,B溶液回流至催化剂完全挥发后过滤,最后将二者按照比例混合,得到折射率为1.24的溶胶。

    2.1.2   折射率为1.15的溶胶制备

    将正硅酸乙酯、无水乙醇、聚氧化丙烯酸丙三醇醚、氨水和纯水按照一定比例混合后,静置陈化后得到折射率1.15的溶胶。

    2.1.3   折射率为1.19的溶胶制备

    以正硅酸乙酯为前驱体,无水乙醇为溶剂。第一份将正硅酸乙酯、无水乙醇、高纯水、氨水按一定比例混合后得溶液C待用;另一份与高纯水和氨水混合得溶液D待用。将溶液B缓慢滴加至溶液A中搅拌6 h后陈化制得折射率1.19的溶胶。

    常温常压下,在百级洁净度环境中以熔石英作为基底,采用提拉镀膜法,制备碱性SiO2单层膜。然后采用氨水加六甲基二硅胺烷气氛后处理法:将膜层在氨气气氛中静置24 h后,再于六甲基二硅胺烷气氛中静置24 h。

    四种膜层的提拉参数以及后处理后膜层光学特性参数如表 1所示。

    表  1  四种膜层的提拉速度以及后处理后膜层光学特性参数
    Table  1.  Dipping speed (v) and optical properties after post processing of four kinds of coatings
    film v/(mm·min-1) n d/nm peak/nm T351/% R351/% Rq/μm
    A 75 1.15 90.31 351 99.34 0.62 4.11
    B 100 1.19 106.11 400 99.39 0.18 2.78
    C 50 1.19 66.52 320 99.41 0.54 2.65
    D 85 1.24 88.27 351 99.32 0.57 2.82
    Note: d-thickness of coating; T351-transmittance at 351 nm; R351-reflectance at 351 nm; Rq-RMS roughness
    下载: 导出CSV 
    | 显示表格
    2.3.1   透过率和反射率

    用Lambda 950型紫外可见近红外分光光度计测量膜层透射率和反射率,测试结果如图 4所示。测试结果表明折射率为1.19的膜层透过率峰值均高于其他两种膜层,与理论分析结果相符。为了避免351 nm处透射率过高、反射率过低导致实验测量结果不准确,实验将膜系A,B的透射峰位涂制在351 nm处,膜系C,D的透射峰位分别在400,320 nm处,351 nm处的透射率均在99.3%左右,反射率最低为0.18%,满足实验要求。

    图  4  四种膜系初始透射率和反射率曲线
    Figure  4.  Initial transmittance and reflectance of four coatings
    2.3.2   折射率、厚度及表面形貌

    用SE850型椭偏仪检测200~800 nm波段的膜层厚度和折射率;用XE-100扫描探针显微镜测量膜层的表面粗糙度。测试结果如表 1图 3所示。不难发现,膜层厚度均满足镀膜要求,且相较于其他三种膜,膜系B具有更高的表面粗糙度。

    2.3.3   表面疏水疏油性

    用JC2000X型静滴接触角测试仪测量膜层对水的接触角,结果如图 5所示。结果显示,膜系A,C,D接触角分别为41°,51°和51°,具有较强的亲水性;而膜系B接触角为114°,表现出较强的疏水性。膜系B为多孔碱性膜,由于其孔隙率高、折射率小,因此其粒子致密度低于另外三种碱性膜,膜层的平整度较差、粗糙度较高,从而具有更强的疏水性能。

    图  5  后处理的四种膜系对水的接触角
    Figure  5.  Contact angle with water of four post-processed coatings

    为了尽可能避免空气中的颗粒污染膜层,导致膜层光学性能指标变化失真,将镀膜后的熔石英样片放置于百级洁净度环境(ISO 5级洁净间)中。每间隔一段时间测量透射率、反射率、膜层厚度和折射率四种光学性能指标,考查其变化规律。

    3.1.1   透射率和反射率

    图 6图 7分别为四种膜系在百级洁净度环境中的透射率、反射率随时间的变化规律。不难发现,膜层B,C,D在180 d内明显呈透射率下降、反射率上升的趋势,膜层A的透射率呈现先升高后趋于缓慢降低的趋势,反射率则降低。这与理论分析结果一致,初始折射率为1.15的膜层A,在180 d实验过程中污染物逐渐填充膜层孔隙,从而导致折射率逐渐增大接近最优折射率1.19,故透射率会先上升,但当折射率大于1.19后,随着污染后折射率继续上升,膜层透过率峰值呈现下降趋势。综上结果表明,溶胶凝胶增透膜长时间放置在百级洁净度环境中,薄膜光学性能会发生改变,且不同溶胶制备的膜层稳定性存在差异。

    图  6  不同膜系透射率随放置时间的变化
    Figure  6.  Change of transmittance as a function of time
    图  7  不同膜系反射率随放置时间的变化
    Figure  7.  Change of reflectance as a function of time

    图 8是常压百级洁净度环境中自然污染前后4种膜系透射曲线对比图。由图可见,膜层B,C污染前后透射曲线差异较小,抗污染能力较强,膜层A,D污染前后透射曲线都存在差异,以膜层D的差异最为显著。

    图  8  常压百级洁净度环境中自然污染前后4种膜系透射曲线对比图
    Figure  8.  Comparison of transmittance before and after contamination in ISO Class 5 cleanroom in atmosphere

    综上所述,不同胶体涂制的膜层光学性能稳定性存在差异,三种膜层稳定性由高到低依次为折射率为1.19,1.16,1.25的膜层。

    为了进一步探究污染物对膜层光学性能稳定性的影响,计算了膜层透射率和反射率之和(STR),结果如图 9所示。在180 d内,四种膜层的STR均较为稳定,可以得到推论:常压环境中吸附填充膜层孔隙的污染物对吸收光、散射光的影响较小,主要影响透射光和反射光,透射率下降直接引起反射率上升。

    图  9  膜层透射率和反射率之和随放置时间的变化规律
    Figure  9.  Change of the sum of transmittance and reflectance as a function of time
    2.1.2   膜层折射率、厚度

    根据薄膜光学理论[6-7],理想单层增透膜实现的条件是:nfd=1/4λnf=nairns。薄膜的折射率和厚度直接影响膜层的透射率以及透射峰位。因此,为深入探究膜层光学性能改变的机理,实验进一步测试了180 d内膜层的折射率、膜层厚度,结果图 10图 11所示。

    图  10  180 d内膜层折射率变化情况
    Figure  10.  Variation of the refractive index of four coatings in 180 days
    图  11  180 d内膜层厚度变化情况
    Figure  11.  Variation of the thickness of four coatings in 180 days

    四种膜层的折射率在180 d内均明显呈线性上升趋势;除膜层A以外,其他膜层的厚度基本保持稳定,由于低折射率的膜层A具有高孔隙率,导致膜层略有收缩。环境中的有机污染物和水分吸附于膜层表面后填充孔隙,从而降低了膜层孔隙率,导致折射率上升。由实验结果得知膜层厚度基本不变,故而透射率改变的根本原因是污染物填充孔隙率导致的膜层折射率上升。

    结合理论分析计算过程,表 2给出了180 d污染前后膜层透射率及其变化率、反射率及其变化率、折射率及其变化率、膜层初始孔隙率和被污染孔隙比率。可以发现,180 d内膜层D有8.29%的孔隙被污染,导致折射率变化率高达2.42%,从而透射率、反射率变化均较为显著;用同样胶体涂制的膜层B,C的受污染程度较小,光学性能表现较为稳定;此外膜层B,C的光学性能稳定性基本一致,表明在实验考查时间范围内膜层的厚度对稳定性影响较小。

    表  2  四种膜层污染前后的光学性能变化与孔隙率变化
    Table  2.  Comparison of the optical properties and the porosity of four coatings before and after contamination
    film before contamination after 180 d contamination (Ti-Tf)/% (Ri-Rf)/% ninfni/% Vc/%
    Ti/% Ri/% ni/% Tf/% Rf/% nf/%
    A 99.34 0.62 1.15 99.66 0.34 1.17 0.32 0.28 1.74 2.70
    B 99.49 0.18 1.19 99.27 0.41 1.21 0.22 0.23 1.68 2.44
    C 99.41 0.54 1.21 99.18 0.79 1.23 0.23 0.25 1.65 2.44
    D 99.32 0.57 1.24 99.67 1.13 1.27 0.35 0.56 2.42 8.29
    下载: 导出CSV 
    | 显示表格

    综上可得,四种膜层的稳定性从高到低依次为:B≈C>A>D。实验结果与理论分析结果一致,证明了污染物吸附于膜层,填充孔隙使得孔隙率下降、折射率上升,从而导致膜层光学性能改变这一理论的合理性。

    在常压百级采用三种胶体在熔石英基底上涂制的四种不同膜层,利用光学计算对化学膜折射率、透过率、反射率与膜层孔隙率的关系进行了理论分析,通过实验考查了其透射率、反射率的稳定性,测试了折射率和膜层厚度随时间的变化规律,得到以下结论:

    (1) 实验用三种溶胶凝胶涂制的化学膜在常压百级洁净度环境中的有效期为80 d(绝对变化率>0.1%);

    (2) 三种胶体涂制的膜层稳定性由高到低依次为折射率1.19,1.15,1.25的膜层;

    (3) 180 d内四种膜层的透射率与反射率之和均相对稳定,表明常压环境中吸附填充膜层孔隙的污染物对吸收光、散射光的影响较小,主要影响透射光和反射光,透射率下降的直接原因是反射率上升;

    (4) 理论分析与实验结果的一致性证明了污染物吸附于膜层,填充孔隙使得孔隙率下降、折射率上升,从而导致膜层光学性能改变这一理论的合理性。

    本文为溶胶-凝胶化学膜在高功率激光系统中的应用优化提供了可靠依据。

  • 图  1  装置示意图

    Figure  1.  Device schematic

    图  2  电场测量系统模型与实物图

    Figure  2.  Electric field measurement system

    图  3  中心区域电场强度分布

    Figure  3.  Electric field intensity distribution in central region

    图  4  微波输出波形

    Figure  4.  Microwave output waveform

    图  5  针板放电试验

    Figure  5.  Pin-to-plate discharge experiment

  • [1] 王胜开, 全寿文, 李淑华, 等. 临近空间和临近空间飞行器[J]. 现代军事, 2008(7): 36-39. https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-XDJI200807010.htm

    Wang Shengkai, Quan Shouwen, Li Shuhua, et al. Near space and near space vehicles. Conmilit, 2008(7): 36-39 https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-XDJI200807010.htm
    [2] 杨澍欣, 李治, 罗超. 美军临近空间武器的作战运用[J]. 长缨, 2017(1): 33-35.

    Yang Miaoxin, Li Zhi, Luo Chao. Operational use of US near space weapons. Changying, 2017(1): 33-35
    [3] 陈凤贵, 陈光明, 刘克华. 临近空间环境及其影响分析[J]. 装备环境工程, 2013(4): 71-75. https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-JSCX201304016.htm

    Chen Fenggui, Chen Guangming, Liu Kehua. Near space environment and its impact analysis. Equipment Environmental Engineering, 2013(4): 71-75 https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-JSCX201304016.htm
    [4] 黄伟, 陈逖, 罗世彬, 等. 临近空间飞行器研究现状分析[J]. 飞航导弹, 2007(10): 28-31. https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-FHDD200710010.htm

    Huang Wei, Chen Tie, Luo Shibin, et al. Analysis of the status of near space vehicles. Aerial Missiles, 2007(10): 28-31 https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-FHDD200710010.htm
    [5] 林江川, 陈自东, 陈小群, 等. 高功率微波作用下光电转换器的抗干扰特性分析[J]. 强激光与粒子束, 2018, 30: 013002. doi: 10.11884/HPLPB201830.170158

    Lin Jiangchuan, Chen Zidong, Chen Xiaoqun, et al. Analysis of anti-interference effects for fiber converter under high power microwave radiation. High Power Laser and Particle Beams, 2018, 30: 013002 doi: 10.11884/HPLPB201830.170158
    [6] 乔登江. 高功率电磁脉冲、强电磁效应、电磁兼容、电磁易损性及评估概论[J]. 现代应用物理, 2013, 4(3): 219-224. https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-YYWL201303002.htm

    Qiao Dengjiang. Introduction to HPEMP, IEME, EMC, and EM susceptibility and its assessment. Modern Applied Physics, 2013, 4(3): 219-224 https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-YYWL201303002.htm
    [7] 余世里. 高功率微波武器效应及防护[J]. 微波学报, 2014, 30(s2): 147-150. https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-WBXB2014S2042.htm

    Yu Shili. Effect and protection of high power microwave weapons. Journal of Microwaves, 2014, 30(s2): 147-150 https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-WBXB2014S2042.htm
    [8] Xu Gang, Liao Yong, Xie Ping, et al. Frequency-tunable high power mesoband microwave radiator[J]. IEEE Trans Plasma Science, 2011, 39(2): 652-658.
    [9] Razavi S F, Rahmat-Samii Y. Resilience to probe-positioning errors in planar phaseless near-field measurements[J]. IEEE Trans Antennas Propag Mag, 2010, 58(8): 2632-2640.
    [10] 钟龙权, 曹学军, 赵刚, 等. 耦合近场仿真及初步验模测试实验研究[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 103228. doi: 10.11884/HPLPB201527.103228

    Zhong Longquan, Cao Xuejun, Zhao Gang, et al. Near-field coupling simulation and preliminary validation test. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 103228 doi: 10.11884/HPLPB201527.103228
    [11] 胡海鹰, 刘忠, 杨浩, 等. 微波准光学聚焦系统空间辐射场分布测试[J]. 太赫兹科学与电子信息学报, 2019, 17(2): 274-277. https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-XXYD201902020.htm

    Hu Haiying, Liu Zhong, Yang Hao, et al. Test on space radiation field strongly distributed in microwave quasi-optical focusing system. Journal of Terahertz Science and Electronic Information Technology, 2019, 17(2): 274-277 https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-XXYD201902020.htm
    [12] 杨浩, 闫二艳, 郑强林, 等. 一种准光反射聚焦微波放电大气等离子体装置[J]. 强激光与粒子束, 2019, 31: 053002. doi: 10.11884/HPLPB201931.180350

    Yang Hao, Yan Eryan, Zheng Qianglin, et al. A microwave plasma system with quasi optical focusing reflector. High Power Laser and Particle Beams, 2019, 31: 053002 doi: 10.11884/HPLPB201931.180350
  • 期刊类型引用(1)

    1. 郭庆亮,李宏伟,湛晖,张昕明,黄妍,吕国辉. 基于FPGA的可调谐光纤激光器频率锁定控制电路. 黑龙江大学工程学报. 2021(02): 66-71 . 百度学术

    其他类型引用(1)

  • 加载中
图(5)
计量
  • 文章访问数:  1189
  • HTML全文浏览量:  332
  • PDF下载量:  92
  • 被引次数: 2
出版历程
  • 收稿日期:  2019-05-08
  • 修回日期:  2019-08-15
  • 刊出日期:  2019-10-15

目录

/

返回文章
返回