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激光预处理中缺陷上的激光能量覆盖

代福 杨李茗

代福, 杨李茗. 激光预处理中缺陷上的激光能量覆盖[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1385-1390. doi: 10.3788/HPLPB20122406.1385
引用本文: 代福, 杨李茗. 激光预处理中缺陷上的激光能量覆盖[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1385-1390. doi: 10.3788/HPLPB20122406.1385
Dai Fu, Yang Liming. Laser coverage on defect in laser conditioning process[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1385-1390. doi: 10.3788/HPLPB20122406.1385
Citation: Dai Fu, Yang Liming. Laser coverage on defect in laser conditioning process[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1385-1390. doi: 10.3788/HPLPB20122406.1385

激光预处理中缺陷上的激光能量覆盖

doi: 10.3788/HPLPB20122406.1385
详细信息
    通讯作者:

    代福

Laser coverage on defect in laser conditioning process

  • 摘要: 分析了不同预处理方式下缺陷上的激光能量的覆盖特点。理论分析表明,相同预处理效率下,单步预处理缺陷上激光能量覆盖率优于多步预处理。实验研究了电子束蒸发制备的HfO2/SiO2多层高反膜的激光预处理,结果发现单步预处理后薄膜的单脉冲激光损伤阈值比相同效率的4步预处理后薄膜的单脉冲激光损伤阈值要好。采用最高能量密度为112%激光损伤阈值的5步预处理后,光学薄膜的激光损伤阈值提高了83.5%。
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-02-02
  • 修回日期:  2012-03-20
  • 刊出日期:  2012-06-15

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