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中等口径光斑激光预处理

郑轶 刘志超 马平 陈松林 张清华

郑轶, 刘志超, 马平, 等. 中等口径光斑激光预处理[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 3180-3184. doi: 3180
引用本文: 郑轶, 刘志超, 马平, 等. 中等口径光斑激光预处理[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 3180-3184. doi: 3180
Zheng Yi, Liu Zhichao, Ma Ping, et al. Laser conditioning technique of mid-size laser spot[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 3180-3184. doi: 3180
Citation: Zheng Yi, Liu Zhichao, Ma Ping, et al. Laser conditioning technique of mid-size laser spot[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 3180-3184. doi: 3180

中等口径光斑激光预处理

doi: 3180
详细信息
    通讯作者:

    郑轶

Laser conditioning technique of mid-size laser spot

  • 摘要: 介绍了一种基于中等口径光斑的新型激光预处理技术。采用基频最大输出10 J的Nd:YAG调Q激光器,获得了直径5 mm、能量密度满足预处理需求的中等口径光斑。较之于小光斑处理方案,采用中等光斑进行扫描,可以显著压缩大口径光学元件的预处理总耗时。为了验证效果,搭建了实验平台,在陪镀片上开展了光斑扫描与损伤阈值测量实验,设计了合理的中等光斑预处理流程,并对阈值提升效果进行了验证。在此基础上,开展了正式元件的预处理实验,采用大行程二维电动位移台,对430 mm430 mm口径的金属铪蒸发工艺高反膜元件进行了夹持和扫描。实验结果表明,经处理后的高反薄膜元件初步达到了27 J/cm2的阈值水平,证明了该技术对薄膜抗损伤能力的提升效果。
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-09-11
  • 修回日期:  2013-09-30
  • 刊出日期:  2013-12-15

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