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溅射功率对Mo薄膜微结构和性能的影响

廖国 何智兵 陈太红 许华 李俊 谌加军 唐永建

廖国, 何智兵, 陈太红, 等. 溅射功率对Mo薄膜微结构和性能的影响[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(09).
引用本文: 廖国, 何智兵, 陈太红, 等. 溅射功率对Mo薄膜微结构和性能的影响[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(09).
liao guo, he zhibing, chen taihong, et al. Effects of sputtering power on structure and property of Mo films deposited by DC magnetron sputtering[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.
Citation: liao guo, he zhibing, chen taihong, et al. Effects of sputtering power on structure and property of Mo films deposited by DC magnetron sputtering[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.

溅射功率对Mo薄膜微结构和性能的影响

Effects of sputtering power on structure and property of Mo films deposited by DC magnetron sputtering

  • 摘要: 实验采用直流磁控溅射沉积技术在不同溅射功率下制备Mo膜,研究了不同溅射功率下Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其晶粒尺寸和应力进行了研究。利用原子力显微镜观察样品的表面形貌发现随着溅射功率的增加,薄膜表面粗糙度逐渐增大。X射线衍射分析表明薄膜呈立方多晶结构,晶粒尺寸为14.1~17.9 nm;应力先随溅射功率的增大而增大,在40 W时达到最大值(2.383 GPa),后随溅射功率的增大有所减小。
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出版历程
  • 刊出日期:  2011-09-15

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