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用于静电加速器的高频离子源及其引出特性

詹福如 袁宏永 范维程 胡素华 余增亮

詹福如, 袁宏永, 范维程, 等. 用于静电加速器的高频离子源及其引出特性[J]. 强激光与粒子束, 2001, 13.
引用本文: 詹福如, 袁宏永, 范维程, 等. 用于静电加速器的高频离子源及其引出特性[J]. 强激光与粒子束, 2001, 13.
zhan fu-ru, yuan hong-yong, fan wei-cheng, et al. RF-driven ion source used in an electrostatic accelerator and its extracting properties[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2001, 13.
Citation: zhan fu-ru, yuan hong-yong, fan wei-cheng, et al. RF-driven ion source used in an electrostatic accelerator and its extracting properties[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2001, 13.

用于静电加速器的高频离子源及其引出特性

RF-driven ion source used in an electrostatic accelerator and its extracting properties

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出版历程
  • 刊出日期:  2001-08-15

用于静电加速器的高频离子源及其引出特性

摘要: 根据离子束生物工程的需要,设计和研制了一台用于静电加速器的小型高频离子源。针对使用环境从理论上确定了离子源的结构和尺寸。通过实验调试取得了引出束流与引出电压、聚焦电压以及放电气压之间的变化特性曲线,测定了引出束流的束径包络,对束流的不稳定性进行了分析,在设计中采取了有效的措施抑制束流不稳定性。结果表明,离子源的最佳工作条件为引出电压1 600V~1 800V,放电气压在(4~8)×10-4Pa范围,此时离子源可引出最大束流30μA。束流大小及其稳定性均达到预期要求。

English Abstract

詹福如, 袁宏永, 范维程, 等. 用于静电加速器的高频离子源及其引出特性[J]. 强激光与粒子束, 2001, 13.
引用本文: 詹福如, 袁宏永, 范维程, 等. 用于静电加速器的高频离子源及其引出特性[J]. 强激光与粒子束, 2001, 13.
zhan fu-ru, yuan hong-yong, fan wei-cheng, et al. RF-driven ion source used in an electrostatic accelerator and its extracting properties[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2001, 13.
Citation: zhan fu-ru, yuan hong-yong, fan wei-cheng, et al. RF-driven ion source used in an electrostatic accelerator and its extracting properties[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2001, 13.

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