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多注速调管电子光学系统的模拟

王树忠 丁耀根 沈斌 2 王进华

王树忠, 丁耀根, 沈斌, 等. 多注速调管电子光学系统的模拟[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18.
引用本文: 王树忠, 丁耀根, 沈斌, 等. 多注速调管电子光学系统的模拟[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18.
wang shu-zhong, ding yao-gen, shen bin, et al. Electron optics system of multi-beam klystron[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18.
Citation: wang shu-zhong, ding yao-gen, shen bin, et al. Electron optics system of multi-beam klystron[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18.

多注速调管电子光学系统的模拟

Electron optics system of multi-beam klystron

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出版历程
  • 刊出日期:  2006-02-15

多注速调管电子光学系统的模拟

摘要: 利用3维电磁场计算软件MAFIA对L波段100 kW多注速调管的多注电子光学系统进行了模拟计算。通过编写宏程序使MAFIA可以计算旁轴电子枪的性能参数,给出了磁场分布并分析了磁场的差异对电子轨迹的影响。模拟表明:中心注磁场具有轴对称性,在均匀区,轨迹的波动性最小,电子轨迹的层流性也最好; 内层电子注径向磁场较小,轨迹的波动性略大于中心注的情况;外层电子注靠近极靴处径向磁场最大,电子轨迹的波动最大,层流性最差。计算并模拟显示了18个电子注在收集极入口处的发散情况。

English Abstract

王树忠, 丁耀根, 沈斌, 等. 多注速调管电子光学系统的模拟[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18.
引用本文: 王树忠, 丁耀根, 沈斌, 等. 多注速调管电子光学系统的模拟[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18.
wang shu-zhong, ding yao-gen, shen bin, et al. Electron optics system of multi-beam klystron[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18.
Citation: wang shu-zhong, ding yao-gen, shen bin, et al. Electron optics system of multi-beam klystron[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18.

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