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能动抛光磨盘的有限元法分析

曾志革 邓建明 姜文汉

曾志革, 邓建明, 姜文汉. 能动抛光磨盘的有限元法分析[J]. 强激光与粒子束, 2002, 14.
引用本文: 曾志革, 邓建明, 姜文汉. 能动抛光磨盘的有限元法分析[J]. 强激光与粒子束, 2002, 14.
zeng zhi-ge, deng jian-ming, jiang wen-han. Finite element analysis for active polishing lap[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2002, 14.
Citation: zeng zhi-ge, deng jian-ming, jiang wen-han. Finite element analysis for active polishing lap[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2002, 14.

能动抛光磨盘的有限元法分析

Finite element analysis for active polishing lap

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出版历程
  • 刊出日期:  2002-02-15

能动抛光磨盘的有限元法分析

  • 1. 中国科学院 光电技术研究所, 四川 成都 61 0209

摘要: 能动磨盘在光学抛光时随磨盘移动位置和旋转角度不同而产生不同的变形以实时与大口径被抛光工件表面实现良好的吻合。模拟了能动磨盘的工作过程,探讨了用于光学抛光的可行性。以加工直径1.5m,f1/2的抛物面光学元件为例,用有限元法对能动磨盘能够产生的变形进行了仿真计算,结果表明能动磨盘能够以较高精度产生旋转对称或非对称的二次曲面。

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